DMDの高速時間変調で256階調のグレースケール露光が可能！
レジストの三次元加工にも！
マスクレス露光装置［D-Light DL-1000］は、露光によって半導体ウェハなどにパターンを描画する装置です。
DMD（Digital Micromirror Device）と呼ばれる表示素子の高速時間変調により、256階調のグレースケール露光が可能。
複雑な三次元構造もフォトマスク無しで実現できます。
マスクレス露光装置［D-light DL-1000］の特徴
1. DMDによる直接描画
DMDは、10数µm角の微小鏡面を格子状に配列した表示素子。
鏡面にLEDを光源とする光を照射し、一つひとつのミラーを傾ける（ON/OFF制御する）ことにより、パターンの画像データを基板上に直接描画します。
通常はON/OFFの2値状態を切り替えることで露光を行いますが、高速なマイクロミラーの時間変調を行うことにより、256階調の三次元グレースケール露光が可能になりました。
2. 超高精細露光モードを搭載
ピクセル補完技術を応用した超高精細露光モードを標準搭載。ミクロンオーダーで露光結果のジャギを解消できます。
スループット時間は長くなりますが、斜線や曲線のデータ再現性が飛躍的に向上します。
タクトと精度、目的に応じてご使用いただけます。
製品仕様
| 基板 | Max. □300mmウェハ |
| 露光方式 | スキャン露光方式 |
| 光源 | LED（光源波長：λ=385nm） |
| 重ね合わせ精度 | ±0.5µm以内 |
| 露光能力 | 400mm2/min（標準露光時） |
| 分解能 | 標準露光時： 0.5µm/pix ファイン露光時： 0.05µm/pix（x10）, 0.10µm/pix（x5） 0.125µm/pix（x4）, 0.25µm/pix（x5） |
| 本体寸法 | W2000 × D1300 × H2000mm |
| 重量 | 約1300kg |
| 使用環境 | 温度：22±1℃ 湿度：50±10％RH（結露無き事） |
| 電源 | AC100V（3A） |
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［D-light DL-1000］
