省コスト・省作業・省スペース！
3つの「省」で半導体試作プロセスを革新します！
ミニマル マスクレス露光装置は、DMD（Digital Micromirror Device）と呼ばれる表示素子を使用し、ステージと完全同期されたON/OFF制御によってウェハ上にパターンを直接描画する装置です。
LED光源の採用や筐体の小型化、クリーンルーム不要のミニマル仕様により、消費電力や設置面積を大幅に削減。
また、焦点合わせやアライメントを全自動化し、スタートボタンを押すだけという手軽さを追求しました。
0.5µm L/S（1:1）
ミニマル マスクレス露光装置の特徴
1. DMDによる直接描画
DMDは、10数µm角の微小な鏡を格子状に配列した表示素子。
鏡面にLEDを光源とする光を照射し、一つひとつのミラーを傾ける（ON/OFF制御する）ことにより、2値化されたパターンの画像データを基板上に直接描画します。
フォトマスク製作にかかる費用と時間が不要になるため、半導体デバイスの試作を効率化することができます。
2. ファインモード搭載でジャギーを改善
露光結果のジャギーを改善するため、標準露光モードに加え、ピクセル補完技術を応用したファイン露光モードを標準搭載。
所要時間は長くなりますが、斜線や曲線のなめらかさが飛躍的に向上します。
タクトと精度、目的に応じてご使用いただけます。
製品仕様
| 基板 | 0.5インチ ミニマルウェハ |
| 基板搬送 | ミニマルシャトル ＆ 搬送システム（PLAD） |
| 露光方式 | スキャン露光方式 |
| 光源 | LED（光源波長：λ=385nm） |
| 焦点合わせ アライメント | 全自動 |
| 重ね合わせ精度 | ±0.5µm以内 |
| 露光分解能 | 1.0µm（1:1 L/S） |
| データ分解能 | 標準露光時： 0.5µm/pix ファイン露光時： 0.05µm/pix（x10）, 0.10µm/pix（x5） 0.125µm/pix（x4）, 0.25µm/pix（x5） |
| 本体寸法 | W294 × D450 × H1440mm |
| 重量 | 約150kg |
| ユーティリティ | AC100V（5A） 圧縮空気 0.45～0.8MPa |
| 消費電力 | 300W |
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